第512章 伟大的人无惧平台：你必须得帮我们

办公室里，林本坚听完了张汝京的叙述，露出了惊喜的笑容：“做出来了？太好了！恭喜她，恭喜他们。”

是的，是恭喜Miss王，是恭喜他们，而不是恭喜自己。

因为他从来都不认为自己是浸润光刻的开山鼻祖。

严格来讲，浸润光刻不是多新奇的概念。

1984年日立的员工就曾申请过在镜头和光刻胶间加入液体的相关专利。1985年，Perkin-Elmer更是申请了镜头浸入水中的专利。

而在1987年，当时就职于IBM的他在公开学术会议上，提出的是将这类技术应用于249纳米光刻焦深的方案。

是的，Miss王和她的团队自称是看了他的这篇论文，所以才对浸润光刻产生了兴趣，写邮件给他，希望能得到更多的指点。

但林博士更加相信，他的那篇文章最大的意义是起了一个科普的作用，相当于一个先入门的人给后来者做了点儿介绍而已。

所以现在听到后来者居上，既然已经做出了193纳米波长的浸润式光刻机的实验机，他除了为对方高兴之外，剩下的只有“果然，浸润光刻理论是能从纸面走向现实的”。

其余的，没有了，真的没有了。

张汝京正在一口饼干，一口苏打水。

他也是飞机上睡觉，下了飞机就干活的典范。

整整20几个小时，除了飞机上吃了一餐，他粒米未进，滴水未沾。先前赶路，情绪亢奋，还没什么感觉，现在真是饥肠辘辘。

得亏林博士是个善良的人，把自己的加班口粮贡献了出来。

所以张博士才能好不容易咽下饼干之后，好歹有体力说话了：“现在恭喜说的太早了，他们真的只是实验机，连干式193纳米波长的原型机都造不出来的实验机。所以，Burn，你必须得跟我走，你得帮他们。”

林本坚愣住了，下意识地反问了一句：“我帮他们？”

张汝京用力点头：“对！这是一项伟大的突破，它的价值丝毫不逊色于紫外线光刻。”

他之所以特地把紫外线光刻拿出来说，是因为在80年代后期，也就是差不多十来年前，蓝色巨人IBM乃至全球芯片界，一度卯足了劲儿搞X光光刻的研发。

当时就职于IBM华生研究中心的林本坚却提出了不同的看法，认为应该做紫外线光刻。

因为X光的光源难以解决，需要大型粒子加速器提供稳定光源，操作难度系数高，而且很快就会抵达天花板，清晰度没办法继续往上升。

相反的，做紫外线光刻，光源好说，操作简单，提升空间也大。

可他不管怎么向老板申请，甚至主动提出，只要X光项目组的1/10的经费，依然没能获得支持。

这也成为了他最终选择离开IBM的原因之一。

而时间过了十多年，光刻机的发展历程证明了，紫外线才是正确的选择，深紫外光刻机先后推出了248纳米、193纳米等波长的技术，适配了半导体规模化生产的需求。

现在行业又开始推进极紫外（EUV）光刻研发。

与此同时，曾经风光一时的X光光刻机已经迅速被边缘化。

张汝京眼睛闪闪发亮：“我敢打赌，十年，很可能只需要五年的时间，浸润式光刻机就会向紫外光打败X光一样，成为新的主流。Burn，你又要创造历史了！”

真是让人羡慕呀。

但是被热烈赞叹的人还处于一种懵的状态中，他努力消化着对方热情洋溢的言语，不得不以冷静客观的态度提醒自己的同行：“Richard，不是我不愿意参与到这项工作中去，而是我去了能做什么呢？你太高估我的能力了。事实上，除了帮忙找一些资料之外，我自认为没为他们做过什么。”

他摆事实讲道理，“镜头和光刻胶之间的液体选用去离子水，一开始就是Miss王自己选的，理由是芯片厂本来就用去离子水。后来因为去离子水会跟光刻胶产生反应，他们为了解决这个问题，确实给我写了邮件，我认为是水中的杂质太多的原因，应该把水中的颗粒、有机物、微生物全部都去除掉，改成超纯水。”

他实话实说，“这大概是我唯一为他们提出的有建设性的意见，而他们也采用了。除此之外，包括让超纯水持续流动的想法也是他们自己想的，理由是流水不腐，户枢不蠹，流动的水才可能洁净。”

这给他造成了不小的震撼，有一种万事万物的道理是贯通的感觉。

他得承认，他很愿意跟这个团队交流，他从邮件中感受到了他们火热的热情。这样的热情，是支撑所有事物发展的根本动力之所在。

可他不觉得自己具备非得加入这个团队不可得的理由，他并不觉得自己进去以后能够带去什么翻天覆地的变化。

张汝京吃惊不小。